28.09.2009 [17:23], Денис Борн
Компания Mapper Lithography NV получила финансовые вливания в размере около $14,7 млн от организации SenterNovem, управляемой Министерством экономики Нидерландов. Mapper (Делфт, Нидерланды) намерена использовать эти средства на создание прототипа новой технологии. Её изобретением является литографическое оборудование, не требующее применения маски и включающее 10000 параллельных электронных лучей. В традиционном фотолитографическом процессе маска – это фотошаблон с рисунком из прозрачных и непрозрачных для электромагнитного излучения (ультрафиолета) участков. Через неё на кремниевую подложку со слоем одного из используемых в производстве полупроводниковых чипов материала, покрытую восприимчивым к излучению фоторезистом, наносится соответствующий рисунок. В разработке же нидерландской компании он "записывается" на пластину непосредственно и избавляет от дорогостоящей части техпроцесса.
Mapper создаст опытный образец оборудования совместно с Catena, Technolution, Multin Hittech, Demcon и Делфтским техническим университетом (Delft University of Technology). Недавно компания и CEA-Leti – ведущий европейский исследовательский институт в области микроэлектроники – анонсировали поставку одной из 300-мм литографических платформ для CEA-Leti в Гренобле, Франция. Машина будет использоваться в рамках трехлетней программы Imagine, нацеленной на совершенствование прямой электронно-лучевой литографии для производства интегральных схем с применением 22-нм техпроцесса. Проект затронет анализ оборудования, интеграции технологии и затрат на её изучение. Производитель электронных компонентов Taiwan Semiconductor Manufacturing (TSMC), являющийся сторонником устранения фотомаски, также анонсировал присоединение к международному консорциуму с CEA-Leti.
Материалы по теме:
- IT-Байки: Электроника-2020 – жизнь после смерти кремния;
- Разработана технология выявления дефектов чипа на стадии создания ячейки;
- Самособирающиеся ДНК помогут преодолеть 22-нм барьер.
ВКонтакте