03.04.2010 [12:08], Константин Ходаковский
Toshiba намерена стать одним из ведущих производителей чипов NAND flash. С этой целью компания намерена затратить в текущем году около $160 млн на строительство первой производственной линии, позволяющей осуществлять печать чипов с соблюдением передовых 25-нм норм. В случае успешного освоения технологии Toshiba надеется наладить на основе этих производственных мощностей массовые поставки памяти в 2012 году.

Усовершенствовав свою фотолитографическую технологию для выпуска более мелких чипов, для чего потребуется применение ультрафиолетовой литографии с более короткой длиной волны, компания развернёт линию по производству 25-нм чипов flash-памяти NAND в четвёртой фабрике своего завода в городе Йоккаичи (Миэ, Япония).
В настоящее время полупроводниковые компании основное внимание уделяют производству flash-памяти по 45- и 40-нм нормам, однако, уже в текущем году планируют наладить массовое 32-нм производство. Toshiba заказала из Нидерландов специальное оборудование фирмы ASML Holding NV, которое будет установлено летом на пятой фабрике завода в Йоккаичи.
Материалы по теме:
Источник:


