«Росэлектроника» создала основу для полупроводниковых пластин полностью из российских материалов

Холдинг «Росэлектроника» (входит в состав госкорпорации «Ростех») продемонстрировал на проходящей в эти дни выставке «Иннопром» образец монокристаллического кремния, который создан полностью из российских материалов. Технология, использованная при его создании, позволит полностью заместить иностранное сырьё при производстве кремниевых пластин для создания электронных силовых приборов.

Применённая здесь технология синтеза монокристаллического кремния создана специалистами НПП «Салют» Холдинга «Росэлектроника» совместно с Институтом физики микроструктур РАН и Институтом химии высокочистых веществ РАН по заказу Минпромторга России. Конечный материал получается в несколько этапов. Сначала порошок металлургического кремния или диоксид кремния используется для синтеза моносилана. После этого из моносилана получают поликристаллический кремний, который служит основой для создания монокристаллического кремния.

«Ростех» освоил технологию собственного производства из российских материалов монокристаллического кремния с удельным электрическим сопротивлением более 1000 Ом-сантиметров. Благодаря этому возможно полностью импортозаместить поставки иностранного сырья, которое использовалось для производства кремниевых пластин для электронных силовых приборов, например, транзисторов, термисторов, силовых выпрямителей тока. На "Иннопроме" мы демонстрируем опытный образец диаметром 107 мм», — прокомментировал данный вопрос генеральный директор НПП «Салют» Александр Бушуев.

Из такого кристалла можно нарезать пластины стандартного диаметра 100-мм, на которых в дальнейшем печатаются различные полупроводники, в частности, силовая электроника. В теории, на таких пластинах можно создавать и микросхемы, хотя большинство современного и относительно современного оборудования оперирует 200- и 300-мм пластинами.